等離子體是物質的一種存在狀態，通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在，但在一些特殊的情況下有第四中狀態存在，如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態中存在下列物質：處于高速運動狀態的電子；處于激活狀態的中性原子、分子、原子團(自由基)；離子化的原子、分子；未反應的分子、原子等，但物質在總體上仍保持電中性狀態。
 

　　等離子清洗機采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機污染物被清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度達到分子級。等離子清洗器除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學鍵發生重組，形成新的表面特性。對某些有特殊用途的材料，在超清洗過程中等離子清洗器的輝光放電不但加強了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。等離子清洗器廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域。

 

　　等離子清洗機的優勢表現在以下8個方面：
 

　　(1)在經過等離子清洗以后，被清洗物體已經很干燥，不必再經干燥處理即可送往下道工序。
 

　　(2)不使用三氯乙甲ODS有害溶劑，清洗后也不會產生有害污染物，屬于有利于環保的綠色清洗方法。
 

　　(3)用無線電波范圍的高頻產生的等離子體與激光等直射光線不同，它的方向性不強，因此它可以深入物體的微細孔眼和凹陷的內部并完成清洗任務，所以不用過多考慮被清洗物體形狀的影響，而且對這些難清洗部位的清洗效果與用氟里昂清洗的效果相似甚至更好。
 

　　(4)整個清洗工藝流程在幾分鐘即可完成，因此具有效率高的特點。
 

　　(5)等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種真空度在工廠實際生產中很容易實現。這種裝置的設備成本不高，加上清洗過程不需要使用價格昂貴的有機溶劑，因此它的運行成本要低于傳統的清洗工藝。
 

　　(6)由于不需要對清洗液進行運輸、貯存、排放等處理措施，所以生產場地很容易保持清潔衛生。
 

　　(7)等離子清洗的技術特點是：它不分處理對象，可處理不同的基材，無論是金屬、半導體、氧化物還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、據四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環氧樹脂等高聚物)都可用等離子體很好地處理，因此，特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結構進行部分清洗。
 

　　(8)在完成清晰去污的同時，還能改變材料本身的表面性能，如提高表面的潤濕性能，改善膜的附著力等，這在許多應用中都是非常重要的。